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SUNTEX工业氟离子IT-8100和Process F

点击次数:825 发布时间:2016-04-25

上泰SUNTEX的工业氟离子测定仪主要为IT-8100,主要配的电极为Process F。主要使用在半导体行业,太阳能电池行业,冶金行业等废水处理过程以及排放F的监控。一般排放口要求F的含量在15ppm以下。废水处理过程中F的含量监控在几百到几千之间都有。
      此款氟离子电极Process F的设计测量范围为0-20000ppm.如果用于排放口监控,一般选用1ppm10ppm的标准液进行两点校正。如果是反应过程中的监控,一般选用10ppm100ppm进行两点校正。
      由于去除废水中的F经常使用氢氧化钙,所以氟电极的表面经常容易形成氟化钙的结垢。在对氟离子计进行校正之前,要想办法先去除表面的结垢。方法一是用盐酸浸泡,二是使用随机配送的裘皮和滑石粉,方法是倒取少量的滑石粉于裘皮上,将电极表面的氟晶片慢慢在裘皮上摩擦,直到表面结垢去除为止。然后需要把电极浸泡在去离子水中,直到电位在200mv以上。使用过后的氟离子电极多多少少都会发生零点电位的偏移。所以泡在去离子水中的时间要稍微长一些,且zui好每隔一小时更换一下去离子水,电位有时达不到200MV,起码也要在180MV以上,不然两点校正很难通过。
    总之,相对于PH而言,氟离子的校正要稍微复杂一些,如果您在使用过程中遇到问题,请我们帮忙解决。

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